한국표면공학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference)
- 한국표면공학회 2009년도 춘계학술대회 논문집
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- Pages.234-234
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- 2009
고밀도 플라즈마 내에서의 plasma species의 변화
The generation of nitrogen ion species in high-density plasma with HCD
- Kim, Sang-Gwon ;
- Kim, Seong-Wan ;
- Takai, O.
- 발행 : 2009.05.27
초록
고밀도 플라즈마 질화를 위해 장비 내에 보조 HCD (Hollow Cathode Discharge) 전극을 설치하여 고밀도의 플라즈마가 발휘되도록 장비를 구축하였다. 기존 bias 플라즈마 질화는 1-10Torr의 공정압력인데 반하여
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