한국표면공학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference)

한국표면공학회 (The Korean Institute of Surface Engineering)
권호 표지

바이어스 전압과 Duty 변화에 따른 펄스 DC 마그네트론 TiN막의 결정배향성 및 미세구조 연구

Effects of substrate bias and pulse frequency on the crystalline and microstructure of TiN films deposited by pulsed DC reactive magnetron sputtering

  • 서평섭 (목포대학교 신소재공학과) ;
  • 한만근 (목포대학교 신소재공학과) ;
  • 서현 (목포대학교 신소재공학과) ;
  • 박원근 (목포대학교 신소재공학과) ;
  • 전성용 (목포대학교 신소재공학과)
  • 발행 : 2009.05.27
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초록

TiN 코팅은 뛰어난 기계적 성질 및 내식성으로 산업전반에 걸쳐 널리 이용되고 있다. 본 연구에서는 비대칭 바이폴라 펄스 DC 반응성 마그네트론 장비를 이용하여 바이어스전압, 펄스주파수 및 Duty를 변화시키면서 TiN 박막을 제작하였다. 위와 같은 3가지 플라즈마 변수의 변화에 따른 TiN 박막의 결정 배향성 및 미세구조에 미치는 영향에 대해 주목하였다.

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