한국신재생에너지학회:학술대회논문집
- 2008.05a
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- Pages.394-396
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- 2008
Deposition of Si film and properties of interface for HIT cell by hyperthermal neutral beam
Hyperthermal 중성빔을 이용한 HIT cell용 Si 박막 형성 및 계면특성
- Oh, Kyoung-Suk ;
- Choi, Sung-Woong ;
- Kim, Dae-Chul ;
- Kim, Jong-Sik ;
- Kim, Young-Woo ;
- Yoo, Suk-Jae ;
- Hong, Mun-Pyo ;
- Park, Young-Chun ;
- Lee, Bon-Ju
- 오경숙 (국가핵융합연구소) ;
- 최성웅 (한동대학교) ;
- 김대철 (국가핵융합연구소) ;
- 김종식 (국가핵융합연구소) ;
- 김영우 (국가핵융합연구소) ;
- 유석재 (국가핵융합연구소) ;
- 홍문표 (국가핵융합연구소) ;
- 박영춘 (한동대학교) ;
- 이봉주 (고려대학교)
- Published : 2008.05.22
Abstract
기존의 PECVD에서 문제시 되고 있는 플라즈마에 의한 박막손상과
Keywords
- Hyperthermal neutral beam;
- Si film;
- Interface properties;
- HIT cell;
- Without plasma damage;
- Room temperature deposition
- 중성빔;
- Si 박막;
- 계면특성;
- 플라즈마 손상 없는;
- 상온증착;