한국신재생에너지학회:학술대회논문집
- 2008.05a
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- Pages.374-377
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- 2008
Optimization of Back Reflector ZnO:Al thin film for a-Si:H thin film Solar Cells
박막형 Si태양전지를 위한 후면반사층 ZnO:Al 최적화
- Lee, Seung-Yoon (LG Electronics Advanced Research Institute) ;
- Ji, Kwang-Sun (LG Electronics Advanced Research Institute) ;
- Eo, Young-Joo (LG Electronics Advanced Research Institute) ;
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Lee, Hae-Suk
(LG Electronics Advanced Research Institute) ;
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Lee, Heon-Min
(LG Electronics Advanced Research Institute) ;
- Lee, Don-Hee (LG Electronics Advanced Research Institute)
- Published : 2008.05.22
Abstract
비정질 Si박막 태양전지의 후면 반사층을 위한 ZnO:Al TCO박막을 RF Magnetron Sputtering 방법으로 증착하였으며 이의 전기적, 광학적 특성 및 구조를 최적화하였다. Sputtering의 공정변수인 증착 RF 파워, 기판온도, 타겟-기판 거리, 증착압력을 변화시켜 ZnO:Al 단일막의 전기적, 광학적 특성을 최적화 하였고,이를 소면적 태양전지 셀 및 모듈에 적용하였다.그 중 증착 RF파워 및 압력이 단일막의 전기적,광학적 특성에 타겟-기판거리는 박막의 균일도에 큰 영향을 주었다. 압력에 따른 박막의 치밀도를 SE EMA방법으로 정량화하였고, 광학적, 전기적 특성과 연관하여 해석하였다. ZnO:Al 박막의 물성을 최적화하여 태양전지 셀에 적용한 결과 두께 80nm에서 가장 큰 Jsc의 증가를 보였고, 적용 전에 비해 약 18%의 광변환효율의 증가를 얻었다. 최적화된 태양전지 셀의 광변환효율은 9.9%, 모듈 효율은 7.4%였다.
Keywords