한국표면공학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference)
- 한국표면공학회 2008년도 추계학술대회 초록집
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- Pages.94-97
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- 2008
Surfactant에 따른 Ni-$Al_2O_3$ 전주도금층의 특성
Characterization of Ni-$Al_2O_3$ Electro-Forming Layer by Surfactant
초록
현재 전주 국내에서는 전주에 대한 관심이 조금씩 증가하는 추세지만 그 활용 영역은 많지 않다. 최근들어 휴대폰 관련 부품과 LCD디스플레이의 핵심부품인 도광판 사출금형에 집중되어 있다. 본 연구에서는 반도체 웨이퍼 절단용 블레이드 제작을 목표로 Ni 전주도금층에 조밀하게
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