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한국진공학회
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한국진공학회:학술대회논문집
(Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference)
한국진공학회 2008년도 제35회 하계학술대회 초록집
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Pages.229-229
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2008
한국진공학회 (The Korean Vacuum Society)
Change in the band alignment of silicon oxynitride films as a function of plasma nitridation condition
임찬중
(연세대학교 세라믹공학과) ;
조만호
(연세대학교 물리학과) ;
이동원
(뉴파워플라즈마(주)) ;
구병희
(뉴파워플라즈마(주)) ;
고대홍
(연세대학교 세라믹공학과)
Im, Chan-Jung
;
Jo, Man-Ho
;
Lee, Dong-Won
;
Gu, Byeong-Hui
;
Go, Dae-Hong
발행 : 2008.08.20
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