$HfO_2$$AlO_3$를 이용한 터널링 절연막의 전기적 특성

  • 오세만 (광운대학교 전자재료공학과) ;
  • 박군호 (광운대학교 전자재료공학과) ;
  • 정명호 (광운대학교 전자재료공학과) ;
  • 김관수 (광운대학교 전자재료공학과) ;
  • 정종완 (세종대 나노공학과) ;
  • 조원주 (광운대학교 전자재료공학과)
  • 발행 : 2008.08.20