Deposition of carbon nitride thin films by using radical source

  • 노기민 (KAIST 신소재공학과) ;
  • 최시경 (KAIST 신소재공학과) ;
  • 유신재 (한국표준과학연구원 진공센터) ;
  • 김정형 (한국표준과학연구원 진공센터) ;
  • 성대진 (한국표준과학연구원 진공센터) ;
  • 신용현 (한국표준과학연구원 진공센터)
  • 발행 : 2008.08.20