$200^{\circ}C$에서 PECVD로 증착한 실리콘질화막의 특징

• Lee, Gyeong-Su ;
• Kim, Eun-Gyeom ;
• Kim, Gyeong-Min ;
• Son, Dae-Ho ;
• Kim, Jeong-Ho ;
• Lee, Gyeong-Min ;
• Han, Mun-Seop ;
• Won, Seong-Hwan ;
• Seok, Jung-Hyeon ;
• Hong, Wan-Sik ;
• Park, Gyeong-Wan

• 이경수 (서울시립대학교 나노과학기술학과) ;
• 김은겸 (서울시립대학교 나노공학과) ;
• 김경민 (서울시립대학교 나노공학과) ;
• 손대호 (서울시립대학교 나노과학기술학과) ;
• 김정호 (서울시립대학교 나노과학기술학과) ;
• 이경민 (서울시립대학교 나노과학기술학과) ;
• 한문섭 (서울시립대학교 물리학과) ;
• 원성환 (서울시립대학교 나노과학기술학과) ;
• 석중현 (서울시립대학교 나노과학기술학과) ;
• 홍완식 (서울시립대학교 나노과학기술학과) ;
• 박경완 (서울시립대학교 나노과학기술학과)

• Published : 2008.08.20

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