Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference (한국진공학회:학술대회논문집)
- 2008.08a
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- Pages.135-135
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- 2008
$200^{\circ}C$ 에서 PECVD로 증착한 실리콘질화막의 특징
- Lee, Gyeong-Su ;
- Kim, Eun-Gyeom ;
- Kim, Gyeong-Min ;
- Son, Dae-Ho ;
- Kim, Jeong-Ho ;
- Lee, Gyeong-Min ;
- Han, Mun-Seop ;
- Won, Seong-Hwan ;
- Seok, Jung-Hyeon ;
- Hong, Wan-Sik ;
- Park, Gyeong-Wan
- 이경수 (서울시립대학교 나노과학기술학과) ;
- 김은겸 (서울시립대학교 나노공학과) ;
- 김경민 (서울시립대학교 나노공학과) ;
- 손대호 (서울시립대학교 나노과학기술학과) ;
- 김정호 (서울시립대학교 나노과학기술학과) ;
- 이경민 (서울시립대학교 나노과학기술학과) ;
- 한문섭 (서울시립대학교 물리학과) ;
- 원성환 (서울시립대학교 나노과학기술학과) ;
- 석중현 (서울시립대학교 나노과학기술학과) ;
- 홍완식 (서울시립대학교 나노과학기술학과) ;
- 박경완 (서울시립대학교 나노과학기술학과)
- Published : 2008.08.20
Abstract
Keywords