Effect of F-based Neutral beam treatment on $Al_2O_3$ Gate Dielectrics

  • 김성우 (성균관대학교 신소재공학과) ;
  • 박병재 (성균관대학교 신소재공학과) ;
  • 염근영 (성균관대학교 신소재공학과)
  • Published : 2008.02.14