Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference (한국전기전자재료학회:학술대회논문집)
- 2008.06a
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- Pages.544-544
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- 2008
Improvement of Current-Voltage Characteristics for optimization Electrolyte
최적의 전해액 선정을 위한 전류-전압 특성고찰
- Park, Sung-Woo (Department of Electrical Engineering, Chosun University) ;
- Han, Sang-Jun (Department of Electrical Engineering, Chosun University) ;
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Lee, Young-Kyun
(Department of Electrical Engineering, Chosun University) ;
- Lee, Woo-Sun (Department of Electrical Engineering, Chosun University) ;
- Seo, Yong-Jin (Department of Electrical Engineering, Daebul University)
- Published : 2008.06.19
Abstract
Metal-CMP 공정시 높은 압력을 가해 줌으로 인하여 금속배선의 디싱 현상과 에로젼 현상이 발생하고 다공성의 하부층에 균열이 생기는 문제점을 개선하고자, 낮은 하력에서 금속막의 광역 평탄화를 이룰 수 있는 ECMP(Electrochemical Chemical Mechanical Polishing)가 생겨나게 되었다. 본 논문에서는 다양한 전해액의 전류-전압 특성 곡선을 비교 분석하여, 패시베이션막이 형성되는 곳을 알 수 있었고, CV와 LSV 법을 통해 전기화학적인 특성을 고찰하였다.
Keywords
- electrochemical mechanical polishing (ECMP);
- electrolyte inter-metal dielectric (IMD);
- I-V curve;
- EDS