Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference (한국전기전자재료학회:학술대회논문집)
- 2008.06a
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- Pages.245-246
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- 2008
A study of high density trench etching according to additive gas
첨가 가스에 따른 고밀도 트렌치 식각특성 연구
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Kim, Sang-Gi
(ETRI) ;
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Park, Kun-Sik
(ETRI) ;
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Koo, Jin-Gun
(ETRI) ;
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Park, Hoon-Soo
(Uiduk Univ.) ;
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Woo, Jong-Chang
(ETRI) ;
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Park, Jong-Moon
(ETRI) ;
- Kim, Bo-Woo (ETRI) ;
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Kang, Jin-Young
(ETRI)
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김상기
(한국전자통신연구원) ;
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박건식
(한국전자통신연구원) ;
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구진근
(한국전자통신연구원) ;
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박훈수
(위덕대학교) ;
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우종창
(한국전자통신연구원) ;
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박종문
(한국전자통신연구원) ;
- 김보우 (한국전자통신연구원) ;
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강진영
(한국전자통신연구원)
- Published : 2008.06.19
Abstract
고밀도 트렌치 공정을 위해 HBr 가스를 주로하고