한국전기전자재료학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference)
- 한국전기전자재료학회 2008년도 추계학술대회 논문집 Vol.21
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- Pages.48-49
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- 2008
플렉서블 디스플레이용 저온공정을 갖는 대향 타겟식 스퍼터링 장치를 이용한 $ZrO_2$ 보호막의 특성
Properties of $(SiO_2)_x(ZnO)_y$ gas barrier films using facing target sputtering system with low temperature deposition process for flexible displays
- 조도현 (대구가톨릭대학교 전자공학과) ;
- 김지환 (대구가톨릭대학교 전자공학과) ;
- 이재환 (대구가톨릭대학교 전자공학과) ;
- 유성원 (대구가톨릭대학교 전자공학과) ;
- 손선영 (대구가톨릭대학교 전자공학과) ;
- 박승환 (대구가톨릭대학교 전자공학과) ;
- 김종재 (대구가톨릭대학교 전자공학과)
- Cho, Do-Hyun (Department of Electronics Engineering, Catholic University of Daegu) ;
- Kim, Ji-Hwan (Department of Electronics Engineering, Catholic University of Daegu) ;
- Lee, Jae-Hwan (Department of Electronics Engineering, Catholic University of Daegu) ;
- Ryu, Sung-Won (Department of Electronics Engineering, Catholic University of Daegu) ;
- Sohn, Sun-Young (Department of Electronics Engineering, Catholic University of Daegu) ;
- Park, Sung-Hwan (Department of Electronics Engineering, Catholic University of Daegu) ;
- Kim, Jong-Jae (Department of Electronics Engineering, Catholic University of Daegu)
- 발행 : 2008.11.06
초록
본 실험에서는 대향 타겟식 스퍼터링 (face target sputtering, FTS) 장비를 사용하여 플렉서블 디스플레이용 poly ethylene naphthalate (PEN) 플라스틱 기판 위에 보호층으로 사용된