Proceedings of the Korean Institute of Information and Commucation Sciences Conference (한국정보통신학회:학술대회논문집)
- 2008.10a
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- Pages.575-578
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- 2008
The Development of Etching Process of TFT-LCD
TFT-LCD의 식각 공정 개발
- Hur, Chang-Wu (Dept. of Electronic Engineering, Mokwon Univ.)
- 허창우 (목원대학교 전자.공학과)
- Published : 2008.10.31
Abstract
본 연구는 LCD 용 비정질 실리콘 박막 트랜지스터의 제조공정중 가장 중요한 식각 공정에서 각 박막의 특성에 맞는 습식 및 건식식각공정을 개발하여 소자의 특성을 안정시키고자 한다. 본 연구의 수소화 된 비정질 실리콘 박막 트랜지스터는 Inverted Staggered 형태로 게이트 전극이 하부에 있다. 실험 방법은 게이트전극, 절연층, 전도층, 에치스토퍼 및 포토레지스터 층을 연속 증착한다. 스토퍼층을 게이트 전극의 패턴으로 남기고, 그 위에
Keywords