평판 디스플레이 세정을 위한 상압 플라즈마 에싱효과에 관한 연구

A Study on Ashing Effects of Atmospheric Plasma for the Cleaning of Flat Panel Display

  • 이건영 (한국기술교육대학교 메카트로닉스공학부) ;
  • 허용정 (한국기술교육대학교 메카트로닉스공학부)
  • Lee, Gun-Young (School of Mechatronics Engineering, Korea University of Technology and Education) ;
  • Huh, Yong-Jeong (School of Mechatronics Engineering, Korea University of Technology and Education)
  • 발행 : 2008.05.22

초록

본 논문에서는 상압 플라즈마 방식이 적용된 반도체 에싱공정의 포토레지스트 에싱율을 향상시키기 위한 연구가 수행되었다. 웨이퍼 표면에 도포된 포토레지스트의 에싱율을 높이기 위하여 공정에 다구찌 기법을 적용하여 실험하였다. 유의한 인자를 파악하고 적합한 인자의 조합을 결정하여 에싱율 향상을 위한 효율적인 접근을 시도하였다. 이 연구는 상압플라즈마 방식이 적용된 에싱공정에서 개별 인자가 지니고 있는 시스템에 대한 기여율에 대하여 나타내었으며 또한 포토레지스트 에싱에 대한 플라즈마의 효용성을 보여준다.

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