Surface morphology and electrical properties of ISZO films deposited by magnetron sputting

마그네트론 스퍼터링에 의해 증착한 ISZO 박막의 표면 형상 및 전기적 특성

  • 이동엽 (부산대학교, 재료공학부) ;
  • 이정락 (부산대학교, 재료공학부) ;
  • 김도근 (한국기계연구원, 표면기술연구센터) ;
  • 이건환 (한국기계연구원, 표면기술연구센터) ;
  • 송풍근 (부산대학교, 재료공학부)
  • Published : 2007.04.05

Abstract

In-Sn-Zn-O 박막을 2개의 케소드(DC, RF)를 이용해magnetron co-sputtering법으로 polycarbonate (PC)기판위에 성막하였다. ITO와 ZnO 타겟은 각각 DC와 RF power supply에 의해 스퍼터 되었다. ISZO 박막의 가장 낮은 비저항은 RF power 55W 일 때 얻을 수 있었고, 이것은 케리어 밀도의 증가에 의한 것이라 생각되어 진다.

Keywords