Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference (한국표면공학회:학술대회논문집)

The Korean Institute of Surface Engineering (한국표면공학회)
권호 표지

Study of nanocrystalline silicon deposition using internal Multiple U-type antenna

내장형 Multiple U-type 안테나를 이용한 나노 다결정 실리콘의 증착에 대한 연구

  • 김홍범 (성균관대학교 나노과학기술학부) ;
  • 이형철 (성균관대학교 신소재공학부) ;
  • 염근영 (성균관대학교 나노과학기술학부, 성균관대학교 신소재공학부)
  • Published : 2007.04.05
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Abstract

나노 다결정 실리콘 박막 증착을 하기 위해서 현재 정전결합플라즈마(CCP, Capacitively Coupled Plasma)를 이용한 PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) 공정에 관한 여구가 활발히 이루어지고 있다. 유도결합플라즈마는(ICP, Inductively Coupled Plasma) 정전결합플라즈마보다 플라즈마 밀도가 높고 파워전달 효율이 좋은 것으로 알려져 있으나 대면적가 어려워 기판이 큰 TFT-LCD로는 많이 연구되고 있지 않다. 본 연구는 유도결합플라즈마를 위해 내장형 multiple U-type 선형 안테나를 이용하여 나노 다결정 실리콘 박막을 증착하여 그 특성을 분석하였다.

Keywords