The study of the large area inductively coupled plasma source using the internal linear antennas

내장형 선형 안테나를 이용한 대면적 유도결합형 플라즈마 소스에 관한 연구

평판 디스플레이의 대면적 플라즈마 공정을 위하여 내장형 선형 안테나를 설치하였고 실질적인 식각 균일도를 알아보기 위하여 floating antenna의 전압 분포 조건에서 glass 위에 $2{\mu}m$의 photoresist가 도포된 시편을 사용하여 식각을 하였다. 식각 균일도 실험은 5 kW의 입력전력과 15mTorr의 $O_2$ gas 조건에서 40분 동안 진행하였다. 그 결과 $2,300\;mm{\times}2,000\;mm$의 기판 상에서 약 11 %의 식각 균일도를 얻을 수 있었다.