Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference (한국표면공학회:학술대회논문집)

The Korean Institute of Surface Engineering (한국표면공학회)
권호 표지

유도 결합형 플라즈마 장치를 이용한 극자외선 마스크 구조의 식각 특성 연구

  • 김두영 (성균관대학교, 신소재공학과) ;
  • 이학주 (성균관대학교, 신소재공학과) ;
  • 정호영 (성균관대학교, 신소재공학과) ;
  • 김현우 (성균관대학교, 신소재공학과) ;
  • 이내응 (성균관대학교, 신소재공학과)
  • Published : 2007.04.05
Download PDF
⟨ Previous Next ⟩

Abstract

최근들어 극자외선을 이용한 리소그라피가 차세대 리소그라피 기술로 각광받고 있다. 극자외선 리소그라피 기술에서 마스크 제조 기술이 매우 중요하다. 이번 연구에서는 마스크 제작에 있어서 필요한 식각 공정을 유도 결합형 플라즈마 장치를 이용하여 여러 가지 공정 조건에 따라 실험하였다.

Keywords