Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference (한국표면공학회:학술대회논문집)
- 2007.11a
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- Pages.114-115
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- 2007
Charge Density Modeling of Silion Nitride Thin Films Using Neural Network
신경망을 이용한 실리콘 나이트라이드 박막의 전하밀도 모델링
- Published : 2007.11.12
Abstract
플라즈마 응용화학기상법을 이용하여 Silicon Nitride (SiN) 박막을 증착하였다. PECVD 공정은 Box Wilson 실험계획표를 이용하여 수행하였다. SiN박막의 전하밀도를 신경망과 유전자 알고리즘을 이용하여 모델링하였다. 개발된 모델을 이용하여 전하밀도에의
Keywords