Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference (한국재료학회:학술대회논문집)
- 2007.11a
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- Pages.14.1-14.1
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- 2007
Poly Si Wafer의 표면 특성변화에 따른 CMP 공정 후 오염 Mechanism의 규명
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Gang, Bong-Gyun
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Park, Jin-Gu
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- Gang, Yeong-Jae ;
- Jo, Byeong-Gwon ;
- Hong, Ui-Gwan ;
- Han, Sang-Yeop ;
- Yun, Seong-Gyu ;
- Yun, Bo-Eon ;
- Hong, Chang-Gi
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강봉균
(한양대학교 바이오나노학과) ;
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박진구
(한양대학교 금속재료공학과) ;
- 강영재 (한양대학교 금속재료공학과) ;
- 조병권 (한양대학교 바이오나노학과) ;
- 홍의관 (삼성전자) ;
- 한상엽 (삼성전자) ;
- 윤성규 (삼성전자) ;
- 윤보언 (삼성전자) ;
- 홍창기 (삼성전자)
- Published : 2007.11.02