한국전기전자재료학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference)
- 한국전기전자재료학회 2007년도 하계학술대회 논문집 Vol.8
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- Pages.85-85
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- 2007
Ru CMP에서 슬러리의 pH 적정제에 따른 영향
Effect of pH adjustors in slurry on Ru CMP
- 김인권 (한양대학교 재료화학공학부) ;
- 권태영 (한양대학교 재료화학공학부) ;
- 조병권 (한양대학교 바이오나노 공학과) ;
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강봉균
(한양대학교 바이오나노 공학과) ;
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박진구
(한양대학교 재료화학공학부) ;
- 박형순 (하이닉스 반도체)
- Kim, In-Kwon (Division of Materials and Chemical Engineering, Hanyang University) ;
- Kwon, Tae-Young (Division of Materials and Chemical Engineering, Hanyang University) ;
- Cho, Byoung-Gwun (Department of Bio-Nano Technology, Hanyang University) ;
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Kang, Bong-Kyun
(Department of Bio-Nano Technology, Hanyang University) ;
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Park, Jin-Goo
(Division of Materials and Chemical Engineering, Hanyang University) ;
- Park, Hyung-Soon (Hynix Semiconductor)
- 발행 : 2007.06.21
초록
최근 귀금속중의 하나인 Ruthenium(Ru)은 높은 일함수, 누설전류에 대한 높은 저항성등의 톡성으로 인해 캐패시터의 하부전극으로 각광받고 있다. 하부전극으로 증착된 Ru은 일반적으로 각 캐패시터의 분리와 평탄화를 위해 건식식각이 이루어진다. 하지만, 건식식각 공정중 유독한