Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference (한국진공학회:학술대회논문집)

2007.02a
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Pages.107-107
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2007

The Korean Vacuum Society (한국진공학회)

권호 표지

Physical characteristics of HfSiON films using a direct N plasma

임찬중 (연세대학교 세라믹 공학과) ;
정권범 (한국표준과학연구원) ;
고대홍 (연세대학교 세라믹 공학과) ;
문대원 (한국표준과학연구원) ;
이연진 (한국표준과학연구원) ;
조만호 (한국표준과학연구원)

Published : 2007.02.06

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