Proceedings of the KIEE Conference (대한전기학회:학술대회논문집)
- 2007.07a
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- Pages.1801-1802
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- 2007
Diagnosis of Etch Endpoint Using Time-Series Neural Network
시계열 신경망을 이용한 식각종말점 진단
- Kim, Min-Jae (Sejong University) ;
- Park, Min-Geun (Sejong University) ;
- Woo, Benjamin (Semi Sysco) ;
- Kim, Byung-Whan (Sejong University)
- Published : 2007.07.18
Abstract
자기 연관 시계열 신경망을 이용하여 식각종말점 패턴-기반 플라즈마 상태를 진단하는 방법을 제안한다. 식각종말점 패턴은 Oxide 박막의 식각공정 중 Optical Emission Spectroscopy를 이용하여 수집하였으며, 역전파 신경망을 이용하여 진단 모델을 개발하였다. 진단 모델은 단일 신경망과 모듈러신경망을 이용하여 개발하였으며, 비교평가결과 모듈러 신경망이더 우수한 성능을 보였다.
Keywords