대한전기학회:학술대회논문집 (Proceedings of the KIEE Conference)

대한전기학회 (The Korean Institute of Electrical Engineers)
권호 표지

RF Magnetron Sputter Chamber 내부의 압력 조절 제어 시스템

Pressure Control System of RF Magnetron Sputter Chamber

  • 이승진 (충남대학교 전기공학과) ;
  • 이호행 (충남대학교 전기공학과) ;
  • 이흥호 (충남대학교 전기공학과) ;
  • 김영준 (충남대학교 전기공학과)
  • Lee, S.J. (Department of Electrical Engineering, Chungnam National University) ;
  • Lee, H.H. (Department of Electrical Engineering, Chungnam National University) ;
  • Lee, H.H. (Department of Electrical Engineering, Chungnam National University) ;
  • Kim, Y.J. (Department of Electrical Engineering, Chungnam National University)
  • 발행 : 2007.07.18
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초록

RF magnetron 스퍼터에서 스퍼터링시 타겟 온도와 기판 온도가 증가함에 따라 chamber내부의 압력이 달라져 동일한 순도의 박막을 얻기가 힘들다. 본 연구에서는 gas량을 조절하는 MFC의 출력 전압을 PID 제어 시스템을 설계하여 기준전압(원하는 진공도에 해당하는 전압 값)과 진공게이지에서 출력되는 전압을 비교하여 MFC의 출력 전압을 증가 또는 감소시킴으로써 gas량을 일정하게 하여 chamber 내부의 압력이 일정하게 유지되도록 하였다.

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