F2/Ar리모트 플라즈마 산화막과 질화막의 화학적 식각에 대한 NO 및 $N_2/O_2$ 첨가효과

• 윤영배 (성균관대학교 나노과학협동과) ;
• 김덕진 (성균관대학교 신소재공학과) ;
• 박성민 (성균관대학교 신소재공학과) ;
• 이내응 (성균관대학교 신소재공학과) ;
• 김경수 (아토㈜) ;
• 배근학 (아토㈜)

• Yun Yeong-Bae ;
• Kim Deok-Jin ;
• Park Seong-Min ;
• Lee Nae-Eung ;
• Kim Gyeong-Su ;
• Bae Geun-Hak

• 발행 : 2006.08.01

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