Initil ALD reactions of $HfO_2$ on Si(001) surface by in-situ synchrotron radiation photoelectron spectroscopy

• Kim Seok-Hwan ;
• Baek Jae-Yun ;
• Kim Min-Guk ;
• Park Ho-Yeong ;
• An Jong-Ryeol ;
• Park Jong-Yun ;
• Kim Yun-Su ;
• Hwang Han-Na ;
• Hwang Chan-Guk ;
• An Gi-Seok

• 김석환 (한국화학연구원 박막재료연구팀) ;
• 백재윤 (성균관대학교 물리학과) ;
• 김민국 (성균관대학교 물리학과) ;
• 박호영 (한국화학연구원 박막재료연구팀) ;
• 안종렬 (성균관대학교 물리학과) ;
• 박종윤 (성균관대학교 물리학과) ;
• 김윤수 (한국화학연구원 박막재료연구팀) ;
• 황한나 (포항방사광가속기연구소) ;
• 황찬국 (포항방사광가속기연구소) ;
• 안기석 (한국화학연구원 박막재료연구팀)

• Published : 2006.02.01

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