$BCl_3/C_4F_8$ 가스 조합을 이용한 $ZrO_x$ 박막의 선택적 플라즈마 식각에 관한 연구

Study on the Selective Plasma Etching of $ZrO_x$ using $BCl_3/C_4F_8$ Gas Mixture

  • 오창권 (성균과대학교 신소재공학과) ;
  • 박상덕 (성균과대학교 신소재공학과) ;
  • 염근영 (성균과대학교 신소재공학과)
  • 발행 : 2006.04.01