기판 인가 전압이 MSNIS 방식으로 증착된 ITO 박막 물성에 미치는 영향

Influence of positive bias voltage on the properties of ITO films by magnetron sputter type negative metal ion source

  • 장호성 (울산대학교 첨단소재공학과) ;
  • 최대한 (울산대학교 첨단소재공학과) ;
  • 최비공 (울산대학교 첨단소재공학과) ;
  • 김유성 (울산대학교 첨단소재공학과) ;
  • 이진희 (울산대학교 첨단소재공학과) ;
  • 최종인 (울산대학교 첨단소재공학과) ;
  • 유용주 (울산대학교 첨단소재공학과) ;
  • 천희곤 (울산대학교 첨단소재공학과) ;
  • 김대일 (울산대학교 첨단소재공학과)
  • 발행 : 2006.04.01