한국표면공학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference)

한국표면공학회 (The Korean Institute of Surface Engineering)
권호 표지

65 nm이하 shallow trench isolation (STI) gap-fill 특성향상을 위한 profile 개선 연구

Study on profile improvement for sub-65 nm shallow trench isolation (STI) gap filling

  • 김희대 (성균관대학교 신소재공학과) ;
  • 박창기 (성균관대학교 신소재공학과) ;
  • 이내응 (성균관대학교 신소재공학과)
  • 발행 : 2006.10.19
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