자기장으로 구속된 스퍼터링 증착원의 특성

Characteristics of magnetically confined sputtering source

  • 김용모 (성균관대학교 플라즈마 응용 표면기술연구센터) ;
  • 이교웅 (성균관대학교 플라즈마 응용 표면기술연구센터) ;
  • 최동훈 (성균관대학교 플라즈마 응용 표면기술연구센터) ;
  • 김갑석 (성균관대학교 플라즈마 응용 표면기술연구센터) ;
  • 한전건 (성균관대학교 플라즈마 응용 표면기술연구센터)
  • 발행 : 2006.10.19