$O_2$ 플라즈마 처리에 따른 ITO 투명전도막의 특성변화

  • 유재혁 (단국대학교 전자컴퓨터공학과) ;
  • 공수철 (단국대학교 전자컴퓨터공학과) ;
  • 신상배 (단국대학교 전자컴퓨터공학과) ;
  • 신익섭 (단국대학교 전자컴퓨터공학과) ;
  • 양신혁 (단국대학교 전자컴퓨터공학과) ;
  • 장지근 (단국대학교 전자컴퓨터공학과) ;
  • 장호정 (단국대학교 전자컴퓨터공학과)
  • 발행 : 2006.05.01

초록

ITO 투명전도막은 현재 FPD(flat panel display)소자의 전극으로 사용되고 있다. 특히 근래에 많은 연구가 진행되고 있는 유기발광다이오드(organic light emitting diode: OLED) 소자의 제작에 투명전도막으로 많은 응용이 되고 있다. ITO 를 이용한 디스플레이 소자는 ITO 의 계면 상태와 전기적 특성에 따라 그 특성이 크게 변한다. 본 연구에서는 $O_2$ 플라즈마 처리를 통하여 ITO 투명전도막의 전기적 특성 및 표면상태의 변화에 대하여 조사하고, 이러한 특성 변화에 따라 현재 많은 연구가 진행되고 있는 OLED 소자의 제작에 응용하기 위하여 유기용액을 이용한 접촉각 측정을 통하여 $O_2$ 플라즈마 처리에 따른 ITO 투명전도막과 유기용액의 접착력에 대하여 고찰하였다.

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