Proceedings of the Korean Society Of Semiconductor Equipment Technology (한국반도체및디스플레이장비학회:학술대회논문집)

The Korean Society Of Semiconductor & Display Technology (한국반도체디스플레이기술학회)
권호 표지

Fabrication of high-refractive index difference SiON planar optical waveguide film using PECVD

PECVD를 이용한 고굴절률차 SiON 평면 광도파로 박막 제작

  • 이노도 (한국기술교육대학교 신소재공학과) ;
  • 구영진 (한국기술교육대학교 신소재공학과) ;
  • 김영철 (한국기술교육대학교 신소재공학과) ;
  • 서화일 (한국기술교육대학교 정보기술공학부)
  • Published : 2006.05.01
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Abstract

평면 광도파로 코어로 사용되는 SiON (Silicon oxynitride)과 클래딩으로 사용되는 $SiO_2$ (Silicon oxide)의 굴절률 차이가 2.5 %인 고굴절률차 평면 광도파로용 SiON 박막을 PECVD (plasma enhanced chemical vapor deposition)로 제작하였다. PECVD에 사용된 가스는 $SiH_4,\;NH_3,\;N_{2}O$이고, Si 기판의 $SiO_2$ 막은 100 nm이다. 가스의 비율에 따라 SiON 막의 굴절률은 633 nm의 파장에서 1.476에서 1.777까지 변화하였다. 코어로 사용되는 SiON의 두께는 $2.5{\mu}m$이고 클래딩과의 굴절률 차이는 2.5 %였다.

Keywords