한국반도체및디스플레이장비학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Society Of Semiconductor Equipment Technology)
- 한국반도체및디스플레이장비학회 2006년도 추계학술대회 발표 논문집
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- Pages.158-165
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- 2006
Taguchi Method를 활용한 Mask Holder Part의 형상 최적화
- 발행 : 2006.10.12
초록
Lithography 장비의 국내 기술개발 수준은 선진사에 비해 많이 뒤져있다고 볼 수 있다. 최근 디스플레이 산업의 폭발적인 성장과 더불어 보다 확실하고 안정적인 생산을 위해서는 Lithography 장비의 국산화 기술개발이 시급한 상황이다. 현재 시중에 나와 있는 제품의 경우 Mask holder part의 과도한 중량으로 인해 교체의 어려움이 있고 그로 인해 장비의 자동화에 걸림돌이 되고 있는 상황이다. 이에 따라 Mask holder part의 교체를 양호하게 하기 위해 질량을 줄이고 처짐이 적게 발생할 수 있도록 형상을 최적화 시키는 것에 목적을 두고 실험계획법 중의 하나인 Taguchi method를 활용하여 Mask holder part의 형상을 최적화하였다.
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