한국전기전자재료학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference)

한국전기전자재료학회 (The Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers)
권호 표지

Benzocyclobutene에 대한 Reactive Ion Etching의 최적화

Optimization of Reactive Ion Etching of Benzocyclobutene Using Neural Networks

  • Park, Bo-Hyeon (Department of Electronics Engineering and Semiconductor Technology Center, Myoungji University) ;
  • Soh, Dea-Wha (Department of Electronics Engineering and Semiconductor Technology Center, Myoungji University) ;
  • Hong, Sang-Jeen (Department of Electronics Engineering and Semiconductor Technology Center, Myoungji University)
  • 발행 : 2006.06.22
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초록

차세대 반도체 공정을 위한 많은 노력 중 미세가공의 중요성이 날로 증가함에 따라 reactive ion etching (RIE)에 대한 연구 또한 그 중요성이 커지고 있다. 본 논문에서는 RIE 과정에서 etch rate과 uniformity에 영향을 줄 수 있는 요인 4가지 즉, $CHF_3$, $O_2$, chamber pressure, RF power의 변화에 대한 실험 계획법(DOE)을 통해 계획하고, 실험한 후 neural network를 통해 학습함으로서 RIE 공정상의 최적화를 모색하였다.

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