Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference (한국전기전자재료학회:학술대회논문집)

The Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers (한국전기전자재료학회)
권호 표지

Optimization of Reactive Ion Etching of Benzocyclobutene Using Neural Networks

Benzocyclobutene에 대한 Reactive Ion Etching의 최적화

  • Park, Bo-Hyeon (Department of Electronics Engineering and Semiconductor Technology Center, Myoungji University) ;
  • Soh, Dea-Wha (Department of Electronics Engineering and Semiconductor Technology Center, Myoungji University) ;
  • Hong, Sang-Jeen (Department of Electronics Engineering and Semiconductor Technology Center, Myoungji University)
  • Published : 2006.06.22
Download PDF
⟨ Previous Next ⟩

Abstract

차세대 반도체 공정을 위한 많은 노력 중 미세가공의 중요성이 날로 증가함에 따라 reactive ion etching (RIE)에 대한 연구 또한 그 중요성이 커지고 있다. 본 논문에서는 RIE 과정에서 etch rate과 uniformity에 영향을 줄 수 있는 요인 4가지 즉, $CHF_3$, $O_2$, chamber pressure, RF power의 변화에 대한 실험 계획법(DOE)을 통해 계획하고, 실험한 후 neural network를 통해 학습함으로서 RIE 공정상의 최적화를 모색하였다.

Keywords