Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference (한국전기전자재료학회:학술대회논문집)

The Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers (한국전기전자재료학회)
권호 표지

Predictive Neural Network Modeling for the Characterization of $SiO_2$ Film Deposited Using PECVD

PECVD로 증착된 실리콘 산화막의 특성분석을 위한 신경망 모델링

  • Kim, Hee-Youn (Department of Electronic Engineering, Myongji University) ;
  • Park, In-Hye (Department of Electronic Engineering, Myongji University) ;
  • Hong, Sang-Jeen (Department of Electronic Engineering, Myongji University)
  • Published : 2006.06.22
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Abstract

본 논문에서는 PECVD를 이용하여 증착시킨 실리콘 산화막에 영향을 주는 파라미터 입력에 따른 박막의 특성을 평가하기 위하여 먼저 통계적 실험계획을 통해 산화막 특성에 유의한 영향을 미치는 요인을 분석하고, 분석된 결과를 이용하여 가장 유의한 교호작용을 신경망 모델링에서 입력파라미터로 포함시킴으로서 교호작용을 고려하지 않은 경우와의 학습결과를 비교하여 두가지 모델링 방법 중 교호작용을 고려한 신경망 모델의 경우가 PECVD의 물리적 현상을 더 명확히 설명할 수 있음을 확인했다.

Keywords