대한전기학회:학술대회논문집 (Proceedings of the KIEE Conference)
- 대한전기학회 2006년도 추계학술대회 논문집 전기물성,응용부문
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- Pages.117-118
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- 2006
$BCl_3/Ar$ 유도 결합 플라즈마 시스템해서 이온 에너지 분포에 따른$HfO_2$ 박막 식각
The etching of $HfO_2$ thin film as the ion energy distributions in the $BCl_3/Ar$ inductively coupled plasma system
초록
In this work, we investigated etching characteristics of
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