대한전기학회:학술대회논문집 (Proceedings of the KIEE Conference)
- 대한전기학회 2006년도 제37회 하계학술대회 논문집 C
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- Pages.1382-1383
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- 2006
고밀도 플라즈마를 이용한 ZnO 박막의 식각 특성 분석
Etching mechanism of ZnO films using high density plasma
- Kang, Chan-Min (School of Electrical and Electronics Engineering, Chung-Ang University) ;
- Kim, Gwan-Ha (School of Electrical and Electronics Engineering, Chung-Ang University) ;
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Kim, Chang-Il
(School of Electrical and Electronics Engineering, Chung-Ang University)
- 발행 : 2006.07.12
초록
ZnO 박막은 wide band gap(Eg=3.37eV)의 derect band gap을 갖고 있기 때문에 여러 소자로의 응용가능성에 큰 기대를 하고 있는 물질이다. 본 논문에서는 소자 제조과정에서 요구되는 ZnO 박막의 식각변수에 따른 식각율과 식각특성에 관하여 연구하였으며 Inductively coupled plasma(ICP)를 사용하여
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