Inductively coupled plasma reactive ion etching of ZnO using C2F6 gas

($C_2F_6$ 유도결합플라즈마(ICP)를 이용한 산화아연(ZnO) 식각에 관한 연구

  • 이건교 (전남대학교 공과대학 신소재공학부 광전자재료협동과정) ;
  • 이병택 (전남대학교 공과대학 신소재공학부)
  • Published : 2005.05.26