알곤+수소 혼합가스 분위기에서 r.f. 마그네트론 스퍼터링 방식으로 제작된 ITO 박막의 특성

Properties of ITO films deposited by r.f. magnetron sputtering method under Ar+$H_2$ gas mixture

  • 박미랑 (한국기계연구원 표면기술연구센터 기능박막그룹) ;
  • 정유정 (한국기계연구원 표면기술연구센터 기능박막그룹) ;
  • 김도근 (한국기계연구원 표면기술연구센터 기능박막그룹) ;
  • 이건환 (한국기계연구원 표면기술연구센터 기능박막그룹)
  • 발행 : 2005.11.04