RF Plasma Cleaning System을 이용한 광학렌즈 세정에 미치는 $CF_4$$N_2$ Gas 영향에 관한 연구

  • 홍주형 (고등기술연구원 플라즈마기술센터 플라즈마팀) ;
  • 신중욱 (고등기술연구원 플라즈마기술센터 플라즈마팀) ;
  • 김상식 (고등기술연구원 플라즈마기술센터 플라즈마팀)
  • 발행 : 2005.11.04