Comparison of Selective and Non-selective Dry Etching of GaAs-based Semiconductors in Planar Inductively Coupled $BCl_{3}$ based Plasmas

• 류현우 (인제대학교 나노공학부/나노기술 응용연구소) ;
• 유승열 (인제대학교 나노공학부/나노기술 응용연구소) ;
• 장수욱 (인제대학교 나노공학부/나노기술 응용연구소) ;
• 최충기 (인제대학교 나노공학부/나노기술 응용연구소) ;
• 박민영 (인제대학교 나노공학부/나노기술 응용연구소) ;
• 임완태 (인제대학교 나노공학부/나노기술 응용연구소) ;
• 이제원 (인제대학교 나노공학부/나노기술 응용연구소) ;
• 조관식 (인제대학교 나노공학부/나노기술 응용연구소) ;
• 전민현 (인제대학교 나노공학부/나노기술 응용연구소) ;
• 송한정 (인제대학교 나노공학부/나노기술 응용연구소)

• Ryu, Hyeon-U ;
• Yu, Seung-Yeol ;
• Jang, Su-Uk ;
• Choe, Chung-Gi ;
• Park, Min-Yeong ;
• Im, Wan-Tae ;
• Lee, Je-Won ;
• Jo, Gwan-Sik ;
• Jeon, Min-Hyeon ;
• Song, Han-Jeong

• 발행 : 2005.02.15

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