Electric structure and thermal stability of $HfO_{2}-Al_{2}O_{3}$ (HfAlO) film for gate insulator

• 이상행 (한양대학교 화학과, 한국표준과학연구원 나노표면그룹) ;
• 정권범 (연세대학교 물리학과) ;
• 조만호 (한양대학교 화학과) ;
• 문대원 (한국표준과학연구원 나노표면그룹) ;
• 이동원 (연세대학교 세라믹공학과) ;
• 고대홍 (연세대학교 세라믹공학과) ;
• 황정남 (연세대학교 물리학과) ;
• 이해원 (한양대학교 화학과)

• Lee, Sang-Haeng ;
• Jeong, Gwon-Beom ;
• Jo, Man-Ho ;
• Mun, Dae-Won ;
• Lee, Dong-Won ;
• Go, Dae-Hong ;
• Hwang, Jeong-Nam ;
• Lee, Hae-Won

• 발행 : 2005.02.15

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