Real-time Fault Detection and Classification of Reactive Ion Etching Using Neural Networks

Neural Networks을 이용한 Reactive Ion Etching 공정의 실시간 오류분류 및 검출에 관한 연구

  • Ryu, Kyung-Han (Department of Electronic Engineering Myongji University) ;
  • Lee, Song-Jae (Department of Electronic Engineering Myongji University) ;
  • Soh, Dea-Wha (Department of Electronic Engineering Myongji University) ;
  • Hong, Sang-Jeen (Department of Electronic Engineering Myongji University)
  • Published : 2005.10.28

Abstract

차세대 반도체 공정을 위한 많은 노력 중 Reactive Ion Etching(RIE)에 대한 연구의 중요성은 계속되고 있으며, 현재 제조공정 라인에서는 공정상의 오류를 줄이는 노력에 주목 하고 있다. 본 논문에서는 이러한 점을 고려하여 반도체 제조 장비에서 발생하는 실시간 데이터에 대해 신경망을 이용하여 각 장비파라미터의 허용범위를 검출하고, 제안된 방법의 성능평가를 위하여, 생산라인에서 수립된 데이터를 활용하였다. 기존의 통계적 공정제어(SPC) 제서 지시되는 방법이 아닌 신경망 모델을 통하여 random variability를 고려한 control limit을 제시한다.

Keywords