한국전기전자재료학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference)
- 한국전기전자재료학회 2005년도 추계학술대회 논문집 Vol.18
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- Pages.93-94
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- 2005
$N_2O$ Plasma Oxidation을 이용한 Silicon의 Oxynitridation과 Gate Dielectrics
Gate Dielectrics and Oxynitridation of Silicon using $N_2O$ Plasma Oxidation
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Jung, Sung-Wook
(Sungkyunkwan Univ.) ;
- Gowtham, M. (Sungkyunkwan Univ.) ;
- Igor, Parm. (Sungkyunkwan Univ.) ;
- Lee, Jun-Sin (Sungkyunkwan Univ.)
- 발행 : 2005.11.10
초록
본 연구에서는 저온 공정에서 제작되는 소자에의 응용을 위하여 Inductively Coupled Plasma Chemical Vapor Deposition(ICP-CVD) 내에서