Proceedings of the KIEE Conference (대한전기학회:학술대회논문집)
- 2005.11a
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- Pages.54-56
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- 2005
Ion energy distributions in $BCl_3/Ar$ etching plasma
$BCl_3/Ar$ 식각 플라즈마에서의 이온 에너지 분포
- Kim, Gwan-Ha (ChungAng University, School of Electrical and Electronics Engineering) ;
- Kim, Chang-Il (ChungAng University, School of Electrical and Electronics Engineering)
- Published : 2005.11.04
Abstract
QMS를 이용하여 chlorine based 유도결합 플라즈마 내 이온의 거동에 대한 분석을 하였다. 플라즈마 진단 가스로는 AT 가스에
Keywords