Atomic layer deposition of high-k dielectric lanthanum oxide($La_{2}O_{3}$) thin films on $SiO_2/Si(100)$ Substrate

  • 조상진 (고려대학교 화공생명공학과) ;
  • 박남균 (고려대학교 재료공학과) ;
  • 하정숙 (고려대학교 화공생명공학과) ;
  • 김병호 (고려대학교 재료공학과)
  • Published : 2004.08.19