Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition 기술을 이용한 $Al_{2}O_{3}$$ZrO_2$ 박막의 증착 및 특성 연구

  • 윤선진 (한국전자통신연구원 기반기술연구소 플렉시블소자팀) ;
  • 임정욱 (한국전자통신연구원 기반기술연구소 플렉시블소자팀) ;
  • 이진호 (한국전자통신연구원 기반기술연구소 플렉시블소자팀)
  • Published : 2004.08.19